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플라즈마(plasma)란 일반적으로 초고온에서 양전하를 띤 이온과 음전하
를 가진 전자가 혼재 해 있으면서 음(-)과 양(+)의 전하의 수가 같아 중성
을 띠고 있는 기체를 말한다. 기체를 수만 내지 수십만 켈빈(K)이상으로
가열하면 열전이에 의해 중성분자가 거의 없는 완전 전리플라즈마가 얻
어지는데 초고온 상태에서는 대부분의 물질이 기화할 뿐만 아니라 해리
또는 전리되어 전리기체 또는 플라즈마라고 불리는 상태가 된다.
고체, 액체, 기체가 갖는 물질의 세가지 상태에 이어 플라즈마를 제4의 물
질상태라고 부르기도 하는데 방전관의 아크(arc)기둥이 가장 전형적인
것으로 발광을 수반하지 않는 플라즈마를 암플라즈마라고 하며 반도체
에 전류가 흐르는 상태에서의 전자와 정공(hole:반도체중의 빈 구멍)의
현상. 나아가 금속이나 반금속 중의 자유전자에 의한 현상도 넓은 의미
로 플라즈마라고 하는데 이를 고체플라즈마라 한다. 플라즈마는 넓은 분
야에서 활용되고 있는데 글로우 방전(glow discharge)의 양광주내의 플
라즈마는 플라즈마CVD법에 의한 반도체 등의 박막형성에 반도체 제조공
정상에서 배선 패턴 형성에 용제를 사용하는 액체 에칭대신 사용하는 드
라이 에칭에 이용되고 있으며 시프트 레지스터 동작을 활용한 이미지센
서용 반도체 디바이스인 플라즈마 커플드 디바이스 등에 활용된다.
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